沉铜是化学镀铜(Eletcroless Plating Copper)的简称,也叫做镀通孔(Plated Through hole),简写为PTH,是一种自身催化的氧化还原反应。两层或多层板完成钻孔后就要举行PTH的流程。
PTH的作用:在已钻孔的不导电的孔壁基材上,用化学的要领沉积上一层薄薄的化学铜,以作为后面电镀铜的基底。
PTH流程剖析:碱性除油→二或三级逆流漂洗→粗化(微蚀)→二级逆流漂洗→预浸→活化→二级逆流漂洗→解胶→二级逆流漂洗→沉铜→二级逆流漂洗→浸酸
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PTH详细流程解说:
1.碱性除油:
? ? ? ? 除去板面油污,指印,氧化物,孔内粉尘;使孔壁由负电荷调解为正电荷,便于后工序中胶体钯的吸附;除油后洗濯要严酷按指引要求举行,用沉铜背光试验举行检测。
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2.微蚀:
? ? ? ? 除去板面的氧化物,粗化板面,包管后续沉铜层与基材底铜之间具有优异的结协力; 新生的铜面具有很强的活性,可以很好吸附胶体钯;
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3.预浸:
? ? ? ? 主要是;ゎ俨勖馐芮按χ贸头2垡旱奈廴,延伸钯槽的使用寿命,主要因素除氯化钯外与钯槽成份一致,可有用润湿孔壁,便于后续活化液实时进入孔内举行足够有用的活化;
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4.活化:
? ? ? ? 经前处置惩罚碱性除油极性调解后,带正电的孔壁可有用吸附足够带有负电荷的胶体钯颗粒,以包管后续沉铜的平均性,一连性和致密性;因此除油与活化对后续沉铜的质量至关主要?刂埔悖夯ǖ氖奔;标准亚锡离子和氯离子浓度;比重,酸度以及温度也很主要,都要按作业指导书严酷控制。
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5.解胶:
? ? ? ? 去除胶体钯颗粒外面包围的亚锡离子,使胶体颗粒中的钯核袒露出来,以直接有用催化启动化学沉铜反应,履历批注,用氟硼酸做为解胶剂是较量好的选择。
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6.沉铜:
? ? ? ? 通过钯核的活化诱发化学沉铜自催化反应,新生的化学铜和反应副产品氢气都可以作为反应催化剂催化反应,使沉铜反应一连一直举行。通过该办法处置惩罚后即可在板面或孔壁上沉积一层化学铜。历程中槽液要坚持正常的空气搅拌,以转化出更多可溶性二价铜。
? ? ? ? 沉铜工序的质量直接关系到生产线路板的品质,是过孔欠亨,开短路不良的主要泉源工序,且不利便目测检查,后工序也只能通过破损性实验举行概率性的筛查,无法对单个PCB板举行有用剖析监控,以是一旦泛起问题一定是批量性问题,就算测试也没步伐完成杜绝,最终产品造成极大品质隐患,只能批量报废,以是要严酷凭证作业指导书的参数操作。